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NLD-4000 (M) 原子层沉积系统
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NLD-4000(ICPM)PEALD原子层沉积系统
%温度:200°C折射率:1.67 原子层沉积技术 NLD-4000(ICPM)PEALD系统概述:原子层沉积是一项沉积薄膜的重要技术,具有广泛的应用。ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽
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NLD-4000 (A) ALD全自动原子层沉积系统
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NLD-4000 (ICPA) PEALD系统
NLD-4000(ICPA)全自动PEALD系统特点:NLD-4000(ICPA)是一款全自动独立的PC计算机控制的PEALD原子层沉积系统,带Labview软件,具备四级密码控制的用户授权
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NLD-3000 ALD原子层沉积系统
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NLD-3500 (A) 全自动原子层沉积系统
NLD-3500(A)全自动原子层沉积系统特点:NLD-3500(A)是一款全自动独立的PC计算机控制的ALD原子层沉积系统,带Labview软件,具备四级密码控制的用户授权保护功能。系统为
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原子层沉积系统(ALD)
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NPE-4000 (ICPM) 等离子增强化学气相沉积系统
立式ICPECVD系统不锈钢或铝制腔体极限真空可达10-7TorrICP离子源高达12”(300mm)直径的样品台 该系统采用淋浴头电极或中空阴极射频等离子源来产生等离子,具有分形气流分布的
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NPE-4000 (M) 等离子体化学气相沉积系统
CNT(碳纳米管)和石墨烯的选择性生长:在需要的位置生长CNT或石墨烯。 NPE-4000(M) PECVD等离子体化学气相沉积系统,具有分形气流分布的优势.样品台可以通过RF或脉冲DC产生偏压
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NPE-4000 (ICPA) 全自动等离子体化学气相沉积系统
CNT(碳纳米管)和石墨烯的选择性生长:在需要的位置生长CNT或石墨烯。 NPE-4000(ICPA)全自动ICPECVD等离子体化学气相沉积系统,具有分形气流分布的优势.样品台可以通过RF或脉冲DC
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